Minden kategória
SiC kerámia
SiC ICP hordozókorong
SiC hordozókorong ICP-hez
SiC ICP hordozókorong
SiC hordozókorong ICP-hez

SiC hordozókorong ICP maratáshoz


A Semixlab SiC hordozókorong ICP maratáshoz egy precíziósan megtervezett folyamatkomponens, amelyet a legigényesebb plazmamaratási környezetekhez terveztek. Rendkívül nagy tisztaságú szilícium-karbidból készült, és a hővezető képesség, a plazmaállóság és a szerkezeti stabilitás ritka kombinációját kínálja, amely biztosítja az állandó ostyahőmérsékletet és a maratás egyenletességét. Minden korongot a kamra adott geometriáihoz és a folyamatkövetelményekhez igazítunk, garantálva az ismételhetőséget, a tisztaságot és a megbízhatóságot a hosszabb gyártási sorozatok során. Várjuk érdeklődését.

Leírás

Az ICP marórendszer rendkívül reaktív és plazma-intenzív környezetében a Semixlab Semiconductor által tervezett SiC hordozókorong kulcsszerepet játszik a lapka integritásának, a maratás pontosságának és az általános folyamatstabilitásnak a meghatározásában. Messze túlmutat egy egyszerű mechanikus szerelvényen, integrált folyamatinterfészként működik – egyensúlyban tartja a termikus, elektromos és plazmakémiai dinamikát, amely közvetlenül meghatározza a maratás egyenletességét és a lapka hozamát.

A SiC hordozókorong lényegében egy stabil és ultratiszta mechanikai platformot biztosít, amely a plazma expozíció során megtámasztja az ostyát. A korong méretpontossága és sík felülete biztosítja az ostya egyenletes illeszkedését, minimalizálja az élfeszültséget, és megakadályozza a mikrotöréseket vagy az ionbombázás alatti deformációt. Kiváló hővezető képessége és egyenletes hőeloszlása ​​lehetővé teszi, hogy az ostyák pontos hőmérsékleti egyensúlyt tartsanak fenn a teljes felületen, ami elengedhetetlen a maratási sebesség szabályozásához és a nanométeres szintű mintahűség eléréséhez. Nagy sűrűségű plazmakörülmények között a hőgradiensek folyamatbeli eltolódást vagy mikroárokképződést okozhatnak, és a SiC korong egyenletes hőeloszlása ​​hatékonyan mérsékli ezeket a hatásokat.

Kémiailag a SiC hordozókorong védőgátként működik a plazma és a kamra ostyakezelő komponensei között. A nagy tisztaságú szilícium-karbid összetétel kiemelkedő ellenállást mutat a halogénalapú vegyszerekkel, például a Cl₂-vel, BCl₃-vel, SF₆-vel és CF₄-vel szemben, minimális fröccsenés okozta szennyeződést biztosítva és gyakorlatilag kiküszöbölve a fémion-migrációt – ami kulcsfontosságú tényező a fejlett csomópont-gyártásban. Ez az inert viselkedés csökkenti a kamra tisztításának gyakoriságát, és meghosszabbítja mind a korong, mind a környező szerszámkomponensek élettartamát, javítva az üzemidőt és az áteresztőképességet.

Elektromos szempontból a Semixlab SiC hordozókorongja hozzájárul a plazmaburok szabályozott kialakításához és az RF energiacsatolás stabilizálásához. A választott anyagkonfigurációtól – vezetőképes vagy félig szigetelő SiC – függően a korong úgy tervezhető, hogy finomhangolja a lokális torzításeloszlást, csökkentse a töltésfelhalmozódást, és megakadályozza a lapka szintű ívképződést vagy a mikrokisüléseket, amelyek ronthatják a jellemzőprofilokat. Ez a precíz elektromos peremfeltételek feletti szabályozás javítja a folyamat megismételhetőségét, és támogatja a fejlett plazmaegyenletesség-hangolási stratégiákat.

Ezenkívül a korong plazma felőli felületét optimalizálták a részecskék keletkezésének minimalizálása és a gázáramlás egyenletes eloszlásának biztosítása érdekében a lapka síkján. Geometriáját számítógépes áramlásmodellezéssel tervezték, hogy kiküszöböljék az örvényeket és a lokalizált plazmasűrűség-változásokat, ami egyenletes ionfluxust és maratási egyenletességet eredményez a teljes lapkatételben. A SiC mechanikai szilárdsága, kémiai inertsége és termikus/elektromos egyensúlya közötti szinergia kritikus fontosságú tényezővé teszi a hibamentes maratásban mind a szilícium, mind a széles tiltott sávú anyagok, például a SiC és a GaN esetében.

Lényegében a Semixlab SiC hordozókorong ICP maratáshoz egy precíziósan megtervezett folyamatelemként működik, amely megőrzi a lapka tisztaságát, miközben aktívan javítja a plazma teljesítményét. Anyagintegritása, szerkezeti kialakítása és funkcionális sokoldalúsága együttesen támogatja a következő generációs eszközgyártás szigorú követelményeit, ahol a maratási pontosság minden nanométere és a szennyeződés-szabályozás minden részecskéje meghatározza a hozamoptimalizálás és a folyamatbeli eltérés közötti határt.

A Semixlab, mint a világ egyik vezető kínai SiC hordozótárcsák gyártója és gyára ICP berendezésekhez, elkötelezett amellett, hogy fejlett technológiát és termékmegoldásokat nyújtson ügyfeleinek. Átfogó szolgáltatásokat kínálunk a teljes folyamat során, beleértve az értékesítés előtti műszaki tanácsadást, a termékprototípus-készítést, a szigorú szállítás előtti tesztelést és a teljes körű értékesítés utáni támogatást. Bármikor szívesen fogadjuk további megkereséseiket.

Szolgáltatásaink

Semixlab termékbolt

nem definiált

ÉRDEKLŐDÉS

Forró kategóriák