150 mm-es porlasztott maratású pajzs

A Shield 150MM Sputter Etch 0200-09083 egy precíziós félvezető kamraalkatrész, amelyet 150 mm-es ostyaporlasztásos maratórendszerekhez terveztek. A plazmafeldolgozó kamrákba szerelve ez az árnyékolás kritikus szerepet játszik a belső kamraszerkezetek védelmében a közvetlen plazmahatástól, a porlasztott részecskéktől és a folyamat melléktermékeitől. Nagy tisztaságú félvezető minőségű anyagokból készül. Optimalizált geometriája segít szabályozni a lerakódások felhalmozódását, fenntartja a kamra tisztaságát, és stabil plazmakörülményeket biztosít az egyenletes ostyafeldolgozás érdekében. A Shield 0200-09083 kulcsfontosságú kamravédő alkatrészként segít meghosszabbítani a berendezések élettartamát, csökkenteni a szennyeződés kockázatát és javítani az általános folyamatstabilitást. Várjuk megkeresését.

Termék áttekintés

A SHIELD 150MM SPUTTER ETCH 0200-09083 egy kamravédő komponens, amelyet plazmafeldolgozó rendszerekbe szerelnek be, amelyeket porlasztásos maratás és felület-előkészítési folyamatokhoz használnak. Kifejezetten 150 mm-es ostyafeldolgozó platformokhoz tervezték, és a kamra belső védőszerkezetének részét képezi.

Kulcsfontosságú termékinformációk

A porlasztásos maratási modulokon belül a védőréteg védőgátként működik, amely elszigeteli az érzékeny kamra hardvereit a plazma expozíciójától és a lerakódások felhalmozódásától.

A belső kamraarchitektúra részeként a pajzs hozzájárul a stabil feldolgozási környezet és a megbízható berendezésműködés fenntartásához.

Funkció félvezető berendezésekben

A porlasztásos maratási rendszerekben a Shield 0200-09083 számos fontos funkciót lát el, amelyek közvetlenül befolyásolják a kamra teljesítményét és a lapkafeldolgozás minőségét.

Kamravédelem

A pajzs egyfajta áldozati védőrétegként működik, amely megakadályozza, hogy a porlasztott részecskék és a reaktív plazma közvetlenül a kamra falaira és a kritikus hardverekre csapódjon.

A lerakódások és a plazma expozíció elnyelésével segít meghosszabbítani a drága kamraalkatrészek élettartamát.

Részecske- és lerakódásszabályozás

A porlasztásos maratás során részecskék és anyaglerakódások halmozódhatnak fel a kamrában. A védőréteg ezen anyag nagy részét felfogja, ami segít:

● Csökkenti a részecskeképződést

● Javítsa a kamra tisztaságát

● Stabil folyamatfeltételek fenntartása

Plazmahatár-stabilizáció

A védőréteg fizikai geometriája segít meghatározni a plazma régiót a kamrán belül. Ez hozzájárul a stabil ioneloszláshoz és az állandó folyamatteljesítményhez.

A kulcsfontosságú alkatrészek védelme

A pajzs segít megvédeni az érzékeny kamraelemeket, például:

● Elektrosztatikus tokmányok

● Fűtőberendezések

● Kamrabélések

● Gázelosztó szerkezetek

A közvetlen plazma expozíció korlátozásával a pajzs támogatja a berendezések megbízható, hosszú távú működését.

Anyag és előnyök

A 0200-09083 porlasztásos maratásos védőréteg jellemzően nagy tisztaságú olvasztott kvarcból készül, amely anyag széles körben használatos félvezető berendezésekben a plazma környezetben mutatott kiváló teljesítménye miatt.

A nagy tisztaságú kvarc előnyei

Kiemelkedő plazma ellenállás: A kvarc erős ellenállást mutat az ionbombázással és a plazmaerózióval szemben, így ellenáll a porlasztási folyamatoknak.

Rendkívül alacsony szennyeződési kockázat: A félvezető minőségű kvarc rendkívül alacsony fémszennyeződés-tartalmú, ami segít csökkenteni a részecskeszennyeződést a lapkafeldolgozás során.

Kiváló hőstabilitás: Az olvasztott kvarc megőrzi szerkezeti integritását magas hőmérséklet és a plazmakamrákban gyakran előforduló gyors termikus ciklusok alatt.

Elektromos szigetelés: A kvarc egy elektromosan szigetelő anyag, amely segít fenntartani a stabil elektromos mezőket és javítja a plazma egyenletességét a folyamatkamrában.

Kémiai kompatibilitás: A kvarc erős ellenállást mutat a porlasztásos maratási eljárásokban használt reaktív gázokkal szemben, így hosszú távú stabilitást és minimális degradációt biztosít.

Ezek az anyagtulajdonságok teszik a kvarcot ideális választássá a plazmával exponált félvezető kamraalkatrészekhez.