Minden kategória
Kvarc alkatrészek
Alkalmazott anyagok AMAT kvarcgyűrű
Alkalmazott anyagok AMAT kvarcgyűrű

Alkalmazott anyagok AMAT kvarcgyűrű


A Semixlab AMAT kvarcgyűrűk ultramagas tisztasággal rendelkeznek, minimalizálják a szennyeződést és maximalizálják a folyamat integritását. Tapasztalja meg a kiváló maratás, lerakódás és diffúzió egyenletességét, ami páratlan folyamatszabályozást és konzisztenciát eredményez. Ez kevesebb hibát, magasabb hozamot és végső soron költséghatékonyabb termelési ciklust eredményez a gyár számára.

Leírás

A Semixlab nagy pontosságú kvarcgyűrűket gyárt. Ezt a terméket elsősorban a PECVD eljárással kiváló minőségű filmek stabil leválasztására használják, miközben maximalizálják a berendezés termelési hatékonyságát és az ostyák hozamát. A plazma eloszlását a geometriai pontosság (±0.1 mm) korlátozza, a reakciógáz áramlási mezőjét optimalizálják, és a film egyenletességét σ≤1.5%-ra javítják. Az adszorpciós folyamat melléktermékei 30%-kal csökkentették az ostyahibák arányát.

Gyors részletek:

becenevek: Kvarcgyűrű, Si ostyatartó, Kvarcgyűrű készlet, Kvarcgyűrű készlet, Felső kamragyűrű, PECVD lerakódási gyűrű, Gázelosztó gyűrű

Cél: Biztosítsa a kiváló minőségű filmek stabil lerakódását a PECVD eljárással, miközben maximalizálja a berendezés termelési hatékonyságát és a ostyák hozamát.

Alap paraméterek: Különösen ajánlott SiN (szilícium-nitrid) leválasztási folyamatokhoz, nagy tisztaságú kvarchoz, és speciális bevonatolási szolgáltatásokat is biztosít. Ellenáll a 300–400 ℃+ magas hőmérsékletnek, ellenáll a plazmaeróziónak, kvarc tisztasága ≥99.99%, fémszennyeződés-tartalma kevesebb, mint 5 ppm, buborék/zárvány átmérője ≤0.1 mm, és száma ≤3 köbcentiméterenként.

Főbb funkciók és szerepek:

●A kamra főbb alkotóelemei: A PECVD folyamatkamrában elhelyezkedve a reakciótér fontos határát képezik.

●Magas hőmérséklettel és plazma ellenállással szemben: Nagy tisztaságú kvarcból készült, kiváló hőmérséklet-állósággal (a PECVD folyamathőmérséklet jellemzően 300°C és 400°C között van) és plazmaerózióval szembeni ellenállással rendelkezik.

●Elektromos szigetelés/szigetelés: Kulcsfontosságú szerepet játszik a kamrán belüli elektromos szigetelésben, biztosítva a plazma stabil keletkezését és a folyamat egyenletességét.

●Termékgáz-tömítés:Segít fenntartani a folyamatgáz környezetének tömítettségét a kamrán belül.

●A wafer gyártási környezetének meghatározása: Geometriája és felületi állapota közvetlenül befolyásolja a gázáramlás és a plazma eloszlását a lapka felett, ami kulcsfontosságú a vékonyréteg-lerakódás egyenletessége és minősége szempontjából.

●Felületbevonat: Egyes, speciális eljárásokban (például SiN) használt kvarcgyűrűket speciális bevonatokkal (például ittrium-oxiddal) vonhatnak be, hogy tovább csökkentsék a melléktermékek lerakódását, vagy javítsák a teljesítményt és az élettartamot bizonyos eljárások során.

Alkalmazott anyagok AMAT kvarcgyűrű Alkalmazási forgatókönyvek

Szolgáltatásaink

Semixlab termékbolt

nem definiált

ÉRDEKLŐDÉS

Forró kategóriák