0200-35223 Kerámia gyűrű
Az AMAT 0200-35223 kerámiagyűrű egy nagy pontosságú félvezető kerámia alkatrész, amelyet fejlett plazmamaratási és leválasztási környezetekhez terveztek. A félvezető-feldolgozó rendszerekben széles körben használt kerámiagyűrű segít szabályozni a plazma viselkedését a kamrán belül, miközben támogatja a stabil RF téreloszlást és csökkenti a szennyeződés kockázatát a wafergyártási folyamatok során. A Semixlab-nál nagy sűrűségű plazmaalkalmazásokhoz, fejlett maratókamrákhoz és kritikus waferfeldolgozási környezetekhez tervezett félvezető minőségű kerámia alkatrészek gyártására és szállítására specializálódtunk. Várjuk megkeresését.
Leírás
Az AMAT 0200-35223 kerámiagyűrű a félvezető plazmakamrás kerámiagyűrűk kategóriájába tartozik, amelyeket általában a fejlett maró- és leválasztórendszerekbe integrálnak. Szerkezetileg precíziósan megmunkált gyűrűalkatrészként tervezték, amely a lapkafeldolgozási régió közelében helyezkedik el, jellemzően az elektrosztatikus tokmány (ESC), a plazmabefogási terület vagy a kamra szélének átmeneti zónája körül.
Bár kompakt megjelenésű, a kamrán belüli szerepe rendkívül fontos. A plazmafeldolgozás során az ostya szélének régiója összetett kölcsönhatásokat tapasztal az RF mezők, az ionpályák és a plazma sűrűség-eloszlása között. Megfelelő kamrahangolás nélkül ezek a kölcsönhatások a folyamat instabilitásához, az élprofil inkonzisztenciájához, valamint egyenetlen maratási vagy lerakódási viselkedéshez vezethetnek.
A kerámia gyűrű funkcionális plazmavezérlő interfészként működik a lapka és a környező kamraszerkezetek között. A lokális elektromos tér eloszlásának befolyásolásával és a plazmaviszonyok stabilizálásával a lapka széle közelében segít javítani a kamra teljes folyamatkonzisztenciáját és a lapka hozamát.
A 0200-35223 kerámia gyűrű fő funkciói
A 0200-35223 kerámiagyűrű egyik legfontosabb funkciója a plazmaszél-szabályozás. A fejlett félvezető eljárásokban a plazma sűrűsége a lapka széle közelében jelentősen befolyásolhatja a kritikus méretszabályozást, a profil egyenletességét és az általános folyamatstabilitást. A kerámiagyűrű segít a plazma eloszlásának kezelésében a szélek közelében, csökkentve a folyamatbeli eltéréseket és javítva a lapka egyenletességét.
Az alkatrész hozzájárul a kamrán belüli rádiófrekvenciás tér stabilizálásához is. Mivel a plazma viselkedése szorosan összefügg az impedanciaeloszlással és a burkolatképződéssel, a kerámiagyűrű geometriája és dielektromos tulajdonságai közvetlenül befolyásolják az ionenergia-eloszlást és a plazma csatolási hatékonyságát. Ez teszi a kerámiagyűrűt fontos rádiófrekvenciás úton tervezett kamraalkatrésszé, nem pedig passzív mechanikus szerkezetté.
Egy másik kritikus funkció a kamra védelme. Nagy sűrűségű plazma működés közben a kamra falai és a közeli alkatrészek agresszív ionbombázásnak és reaktív plazmafajtáknak vannak kitéve. A kerámia gyűrű védőgátként működik, csökkentve a plazma közvetlen kitettségét az érzékeny kamraszerkezetekre, és segítve a berendezés élettartamának meghosszabbítását.
Ezenkívül a kerámiagyűrű támogatja a részecskecsökkentési stratégiákat a kamrán belül. A nagy tisztaságú, optimalizált felületkezelésű kerámiák segítenek csökkenteni a porlasztással, erózióval és gázkiáramlással járó szennyeződési kockázatokat, ami különösen fontos a fejlett félvezető csomópontokban, ahol a részecske tolerancia egyre szigorúbb.
Szolgáltatásaink


EN
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ





