EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
TaC bevonatú grafitgyűrű
A Semixlab TaC bevonatú grafitgyűrűit a félvezetőgyártás extrém teljesítményére tervezték. Nagy tisztaságú tantál-karbid (TaC) CVD bevonatgyűrűink nélkülözhetetlenek a CVD, PVD és plazmamaratási folyamatokhoz, vezetőgyűrűként, fókuszgyűrűként és bélésgyűrűként szolgálva. Tartós és megbízható alkatrészeinkkel csökkentheti a részecskeszennyeződést és növelheti a lapkahozamot.
Leírás
A Semixlab TaC bevonatú grafitgyűrű egy kritikus alkatrész, amelyet elsősorban a félvezetőgyártó berendezésekben használnak. Nagy tisztaságú grafit hordozóból áll, amelyet gondosan bevonnak tantál-karbid (TaC) réteggel. Ez a fejlett bevonat kiváló felületet biztosít, amely megvédi az alatta lévő grafitot a zord kémiai környezettől és a magas hőmérsékleti viszonyoktól.
TaC-bevonatú grafitgyűrűink olyan eljárásokban játszanak fontos szerepet, mint a kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD), a fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD) és a plazmamaratás. Védőrétegként, vezetőgyűrűként vagy a reakciókamra kulcsfontosságú szerkezeti elemeként szolgálnak, biztosítva a végső félvezető ostya integritását és minőségét.
SPECIFIKÁCIÓK
| A tantál-karbid (TaC) bevonat fizikai tulajdonságai | |
| Sűrűség | 14.3 (g/cm³) |
| Fajlagos emisszióképesség | 0.3 |
| Hőtágulási együttható | 6.3*10-6/K |
| Keménység (HK) | 2000 HQ |
| Ellenállás | 1 × 10-5 Ohm*cm |
| Termikus stabilitás | <2500 ℃ |
| Grafitméret-változások | -10~-20 µm |
| Bevonat vastagsága | ≥20µm tipikus érték (35µm±10µm) |
Alkalmazási területek
Alkalmazások félvezető folyamatokban
A félvezetőgyártáshoz használt TaC-bevonatú grafitgyűrűink robusztus tulajdonságai számos kulcsfontosságú alkalmazásban nélkülözhetetlenné teszik őket.
1. Kémiai gőzleválasztás (CVD)
A CVD-eljárásokban, ahol a gázok magas hőmérsékleten reagálnak, hogy vékony filmeket képezzenek a lapkákon, a reakciókamra rendkívül agresszív környezet. CVD TaC bevonatú gyűrűinket szuszceptorgyűrűként, vezetőgyűrűként és bélésgyűrűként használják. Kivételes védelmet nyújtanak a korrozív gázok és a kémiai támadások ellen, megakadályozzák a részecskeszennyeződést, és biztosítják az egyenletes filmvastagságot a lapkán. A TaC magas hőstabilitása lehetővé teszi a stabil működést még szélsőséges hőmérsékleteken is.
2. Fizikai gőzlerakódás (PVD)
PVD porlasztáshoz és elektronsugaras párologtatáshoz gyűrűink alapvető fontosságú alkatrészek a vákuumkamrában. Árnyékoló vagy vezetőgyűrűként működnek, amelyek megvédik más érzékeny alkatrészeket a porlasztó törmeléktől és a plazmabombázástól. A TaC bevonat rendkívüli keménysége és sűrűsége rendkívül ellenállóvá teszi a részecskeerózióval szemben, drasztikusan csökkentve az alkatrészek degradációjának és az ebből eredő lapkahibáknak a kockázatát.
3. Plazmamaratás
A plazmamaratás során egy nagy reaktivitású plazmát használnak az anyag szelektív eltávolítására a lapkáról. Ez a folyamat az alkatrészeket...
Versenyelőny
A Semixlab TaC bevonatú grafitgyűrűk előnyei
1. Kiváló tartósság
● A sűrű CVD TaC bevonat sokkal jobban ellenáll a plazmahatásnak, a vegyi támadásnak és a mechanikai kopásnak, mint a csupasz grafit.
2. Nagy tisztaságú félvezető hozam
● Rendkívül alacsony szennyeződéstartalmú grafitból és nagy tisztaságú TaC bevonattal készült az ionos szennyeződés minimalizálása érdekében.
3. Precíziós megmunkálás és bevonatolás-vezérlés
● Fejlett megmunkálás szűk tűréshatárokért; egyenletes bevonatvastagság az állandó teljesítményért.
4. Testreszabás és mérnöki támogatás
● Különböző átmérők, keresztmetszeti profilok, bevonatvastagságok és tömítési jellemzők választéka.
● Műszaki konzultáció folyamatspecifikus tervekhez.
5. Gyors prototípusgyártás és globális ellátás
●Gyors mintagyártás, globális logisztika és megbízható átfutási idők.
Szolgáltatásaink
Semixlab termékbolt
