EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
SiC konzolos evezők
A Semixlab SiC konzolos lapátjai precíziósan megtervezett alkatrészek, amelyeket magas hőmérsékletű félvezető folyamatokban, például epitaxiában, oxidációban és CVD-ben történő szeletek kezelésére terveztek. Nagy tisztaságú átkristályosított vagy CVD szilícium-karbidból készültek, ezek a lapátok kiváló hővezető képességet, alacsony hőtágulást és kivételes kémiai ellenállást kínálnak. Könnyű, nagy szilárdságú kialakításuk biztosítja a méretstabilitást és a szeletek védelmét a gyors hőciklusok során. A globális félvezető-vezetők bizalmát élvező Semixlab teljesen testreszabott megoldásokat, gyors szállítást és hosszú termékélettartamot kínál, így ideális partner a fejlett félvezető-gyártási igényekhez.
Leírás
II. Nagy tisztaságú SiC konzolos lapátok precíziós ostyakezeléshez
A SiC konzolos lapátok kritikus fontosságú alkatrészek a hőfeldolgozó berendezésekben, amelyeket a félvezetőgyártás epitaxiális, diffúziós és oxidációs lépései során a lapkák kezelésére használnak. Kivételes termikus és mechanikai tulajdonságaik ideálissá teszik őket magas hőmérsékletű és korrozív környezetben történő tisztatéri műveletekhez.
II. Termékáttekintés és funkcionális előnyök
1. Kivételes anyagtulajdonságok nagy teljesítményű alkalmazásokhoz
A Semixlab SiC konzolos lapátjai nagy tisztaságú, átkristályosított szilícium-karbid (R-SiC) vagy CVD SiC bevonatokból készülnek, kiváló hővezető képességet (akár 120 W/m·K), alacsony hőtágulást (~4.0 x 10⁻⁶/K), valamint kiemelkedő korrózió- és hősokkállóságot biztosítanak. Ezek a tulajdonságok stabil ostyatartást biztosítanak a magas hőmérsékletű folyamatok során, minimalizálva az ostya deformációjának vagy szennyeződésének kockázatát.
2. Kiváló méretstabilitás és síkfelület
A konzolos kialakítás minimális vetemedést mutat még 1400°C feletti hőmérsékleten is, így biztosítja az egyenletes szelet-elhelyezést és -átvitelt, ami elengedhetetlen az epitaxiális réteg egyenletességéhez. A SiC kis tömege és nagy merevsége javítja a rendszer áteresztőképességét és hőmérséklet-válaszát a gyors hőfeldolgozás során.
3. Tisztaszobai minőségű felülettisztaság
A sűrű és sima SiC felületkezelésnek köszönhetően a Semixlab lapátok minimalizálják a részecskeképződést és a gázkibocsátást. Ez különösen fontos az 1. vagy ISO 14644-1 2. osztályú tisztasági szintet igénylő környezetekben.
4. Epitaxiális, diffúziós és CVD kemencékhez igazítva
SiC konzolos lapátjainkat széles körben használják MOCVD, LPCVD és oxidációs kemencék platformjain, és kompatibilisek olyan vezető berendezésmárkákkal, mint az ASM, a TEL és a Veeco. Optimális termikus egyenletességre és mechanikai pontosságra tervezték őket, ami segít biztosítani a magasabb hozamot és az alacsonyabb folyamatvariációt.
Ⅲ. Miért válassza a Semixlab-ot?
Egyedi igényekre szabott mérnöki szolgáltatásokat kínálunk, beleértve:
● Termék testreszabása méret, szerkezet és anyagminőség szerint
● Bevonatoptimalizálás hő- és vegyi ellenállás érdekében
● Gyors prototípusgyártás és kis tételű gyártási képesség
● Műszaki tanácsadás és tervvalidáció
A Semixlab, mint a SiC konzolos lapátok vezető kínai gyártója és gyára, ragaszkodik a személyre szabott technológiai és termékmegoldások biztosításához. Akár a meglévő hőkezelési folyamat optimalizálását, akár nagy teljesítményű pótalkatrészek vásárlását, akár közösen kidolgozott személyre szabott SiC megoldásokat szeretné, a Semixlab technikai és szállítási támogatást nyújt Önnek.
Alkalmazási területek
● MOCVD epitaxiás ostyahordozók
● Oxidációs és diffúziós kemence lapátkarjai
● Szegélybetöltő rendszerek LPCVD/CVD szerszámokban
● Testreszabott szuszceptor tartókarok összetett félvezetők növekedéséhez
Szolgáltatásaink
Semixlab termékbolt
